反轉顯影、正拷正工藝的工藝原理

& l. \4 r+ ^* a9 v  Y; U& X( J
: F& h2 R' B) K. J& k反轉顯影reverse developing
" s- k2 ^& L6 w% U" }2 n
1 Q# c: v$ X# O, T. g5 U

反轉顯影俗稱正拷正工藝。在照相雕刻時由描樣片直接拷貝出正連曬片的方法。描樣片與感光膠片疊加曝光顯影后，無花紋遮蓋處膠片上的溴化銀被還原成銀粒組成負像，花紋遮蓋處膠片上的溴化銀組成潛在的正像。常規的沖洗是用還原劑大蘇打溶液洗去未曝光之溴化銀潛像，留下銀粒組成負像；反轉顯影則使用重鉻酸鉀或高錳酸鉀等氧化劑溶液處理洗去組成正像的銀粒，留下組成潛在正像的溴化銀，再經曝光、顯影、定影而得到與描樣片一致的正像，目的在于節約膠片。

! g4 f6 n0 E) X6 J9 H* b

正拷正工藝reverse
* V# v! y3 x' [0 S3 G7 S/ T0 H3 |1 Q

0 _2 a2 M. b3 c: O- L" p( y# n" L% Q
; \- B+ N& \. \  s